* Corresponding Author
Fabrikasi Lapisan Antirefleksi dengan Bahan Methyl Methacrylate (MMA) Menggunakan Metode Spin Coating (Halaman 30 s.d. 33)
https://doi.org/10.22146/jfi.24355 Sudarsono -(1*), Gatut Yudoyono(2), Bachtera Indarto(3), Yono Hadi Pramono(4), Faridawati -(5)
(1) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(2) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(3) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(4) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(5) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(*) Corresponding Author
Abstract
Telah dilakukan fabrikasi lapisan antirefleksi dengan bahan methyl methacrylate dengan metode spin coating. Lapisan methyl methacrylate dilapiskan pada substrat kaca kemudian diputar dengan kecepatan 1000 rpm dengan metode spin coating. Untuk membuat lapisan anti refleksi dibutuhkan indeks bias substrat lebih besar dari pada lapisan film, sehingga salah satu bahan yang dipilih pada penelitian ini adalah methyl methacrylate dengan indeks bias 1,49. Dari hasil fabrikasi didapatkan nilai ketebalan lapisan adalah 10,816 µm. karakterisasi hasil fabrikasi dilakukan menggunakan spektrometer UV Vis dengan panjang gelombang (390- 450) nm dan menghasilkan transmisi lebih dari 87,842% dan absorbsi kurang dari 0,056 %. Dari hasil transmisi dan absorbsi bahan tersebut maka hasil refleksi relatif kecil sehingga dapat digunakan sebagai lapisan antirefleksi.
Full Text:
PDF DOI: https://doi.org/10.22146/jfi.24355
Article Metrics
Abstract views : 1510
| 
views : 4052
Refbacks
- There are currently no refbacks.
Copyright (c) 2015 Sudarsono -, Gatut Yudoyono, Bachtera Indarto, Yono Hadi Pramono, Faridawati -
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.
JFI Editorial Office
Departement of Physics, Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Universitas Gadjah Mada
Sekip Utara PO BOX BLS 21, 55281, Yogyakarta, Indonesia
JFI is indexed by:
Jurnal Fisika Indonesia, its website and the articles published are licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.