Fabrikasi Lapisan Antirefleksi dengan Bahan Methyl Methacrylate (MMA) Menggunakan Metode Spin Coating (Halaman 30 s.d. 33)

https://doi.org/10.22146/jfi.24355

Sudarsono -(1*), Gatut Yudoyono(2), Bachtera Indarto(3), Yono Hadi Pramono(4), Faridawati -(5)

(1) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(2) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(3) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(4) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(5) Jurusan Fisika, FMIPA Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya Kampus ITS, Keputih Sukolilo 6011 Jawa Timur, Indonesia
(*) Corresponding Author

Abstract


Telah dilakukan fabrikasi lapisan antirefleksi dengan bahan  methyl methacrylate dengan metode spin coating. Lapisan  methyl methacrylate dilapiskan pada substrat kaca kemudian diputar dengan kecepatan 1000 rpm dengan metode spin coating. Untuk membuat lapisan anti refleksi dibutuhkan indeks bias substrat lebih besar dari pada lapisan film, sehingga salah satu bahan yang dipilih pada penelitian ini adalah methyl methacrylate dengan indeks bias 1,49. Dari hasil fabrikasi didapatkan nilai ketebalan lapisan adalah 10,816 µm. karakterisasi hasil fabrikasi dilakukan menggunakan spektrometer UV Vis dengan panjang gelombang (390- 450) nm dan menghasilkan  transmisi lebih dari 87,842% dan absorbsi kurang dari 0,056 %. Dari  hasil transmisi dan absorbsi bahan tersebut maka hasil refleksi  relatif kecil sehingga dapat digunakan sebagai lapisan antirefleksi.


Full Text:

PDF



DOI: https://doi.org/10.22146/jfi.24355

Article Metrics

Abstract views : 1499 | views : 3993

Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Copyright (c) 2015 Sudarsono -, Gatut Yudoyono, Bachtera Indarto, Yono Hadi Pramono, Faridawati -

Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.

JFI Editorial Office

Departement of Physics, Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Universitas Gadjah Mada

Sekip Utara PO BOX BLS 21, 55281, Yogyakarta, Indonesia

Email: jfi.mipa@ugm.ac.id

JFI is indexed by:


Creative Commons License
Jurnal Fisika Indonesia, its website and the articles published are licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License

Social media icon made by Freepik from www.flaticon.com

Social media icon made by Freepik from www.flaticon.com

web
analytics View My Stats