Pelapisan TiO2 di atas FTO dengan Teknik Slip Casting dan Spin Coating untuk Aplikasi DSSC (Halaman 66 s.d. 69)

https://doi.org/10.22146/jfi.24393

Deni Yulika(1*), Kusumandari -(2), Risa Suryana(3)

(1) Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Sebelas Maret Jalan Ir. Sutami No. 36A Kentingan Surakarta
(2) Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Sebelas Maret Jalan Ir. Sutami No. 36A Kentingan Surakarta
(3) Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Sebelas Maret Jalan Ir. Sutami No. 36A Kentingan Surakarta
(*) Corresponding Author

Abstract


Pelapisan TiO2 di atas substrat FTO telah dibuat dengan teknik slip casting dan spin coating untuk aplikasi pada sel surya struktur DSSC. Dye antosianin sebagai fotosensitizer, TiO2 fase anatase sebagai elektroda kerja, lapisan karbon sebagai elektroda lawan, dan elektrolit Iˉ/I3ˉ digunakan sebagai bahan penyusun DSSC. Analisa kurva karakteristik I-V menghasilkan efisiensi sebesar 0,9 × 10-2 % dengan teknik slip casting dan 1,8 × 10-2 % dengan teknik spin coating. Pelapisan TiO2 teknik spin coating dapat meningkatkan kinerja DSSC dua kali lebih besar daripada teknik slip casting. Hal ini disebabkan teknik spin coating memiliki homogenitas lapisan TiO2 yang terkalsinasi dengan baik pada substrat sehingga mampu menyerap dye dengan optimal.

Full Text:

PDF



DOI: https://doi.org/10.22146/jfi.24393

Article Metrics

Abstract views : 1530 | views : 1999

Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Copyright (c) 2015 Deni Yulika, Kusumandari -, Risa Suryana

Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.

JFI Editorial Office

Departement of Physics, Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Universitas Gadjah Mada

Sekip Utara PO BOX BLS 21, 55281, Yogyakarta, Indonesia

Email: jfi.mipa@ugm.ac.id

JFI is indexed by:


Creative Commons License
Jurnal Fisika Indonesia, its website and the articles published are licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License

Social media icon made by Freepik from www.flaticon.com

Social media icon made by Freepik from www.flaticon.com

web
analytics View My Stats